Placa de cromo

Nas áreas de revestimento a vácuo, fabricação de semicondutores e pesquisa e desenvolvimento de ligas de alto{0}}desempenho, a pureza e a planicidade dos materiais determinam diretamente a formação do filme dos produtos finais. A placa de cromo, com ponto de fusão de até 1.907 graus e excelente resistência à corrosão, está se tornando um substrato metálico de "grau estratégico" insubstituível na indústria global de alta-tecnologia.

1. Desempenho central: genes físicos indestrutíveis

O cromo (Cr) não apenas confere ao material um glamoroso brilho branco-prateado, mas também cria um poderoso sistema de defesa no nível micro:

Excelente resistência à oxidação: a superfície forma rapidamente uma película de passivação densa em condições de temperatura ambiente, que pode resistir eficazmente à oxidação e à erosão ácida-base, mesmo quando se trata de alta temperatura.

Alta dureza e resistência ao desgaste: A dureza Mohs chega a 8,5, de modo que ainda pode ter uma superfície plana quando é lavada fisicamente.

Excelente estabilidade de vácuo: a pressão de vapor extremamente baixa garante que não liberará gases impuros na câmara de ultra-alto vácuo.

2. Composição química e indicadores técnicos (Ultra-Alta Pureza)

Adotamos processos avançados de refino eletrolítico e fundição a vácuo para minimizar impurezas prejudiciais, como oxigênio, nitrogênio e hidrogênio.

3. Processo enxuto: do blank denso à placa de precisão

O nascimento de cada placa de cromo passou por um processo estrito e fechado:

Prensagem isostática de alta pressão (HIP): Elimina poros microscópicos dentro do tarugo para garantir uma organização densa e uniforme.

Laminação a quente/frio em vários-passes: excelente orientação de grãos e planicidade da superfície por meio de controle de redução preciso.

Alívio de tensão a vácuo: O processo exclusivo de recozimento garante que a placa não deforme durante a usinagem ou pulverização subsequente.

4. Especificações do produto e parâmetros básicos (personalizáveis)

Fornecemos uma gama completa de suporte de tamanho, desde folhas experimentais em miniatura até alvos industriais de grandes{0}áreas:

Espessura: 1,0 mm-20 mm (Personalizado conforme solicitação ou desenho)

Largura (largura): 5-200 mm, até 500 mm

Comprimento: Até 1500mm

Planicidade: Menos de 0,2 mm

Tolerância: Dentro de ± 0,1 mm (máximo de ± 0,05 mm para grau de precisão)

5. Tratamento de superfície: harmonia e unidade da superfície e função do espelho

Chão: Elimina textura rolante na superfície para fornecer uma superfície física consistente.

Polido: O acabamento superficial pode atingir Ra 0,4 um ou mais, porém pode haver risco de arco elétrico.

Limpeza ultrassônica: concluída em uma sala com-árvore de 10.000 níveis de poeira-para remover todos os resíduos de fluido de corte e garantir que o produto esteja pronto-para uso imediato.

6. Resistência do núcleo: Por que os engenheiros seniores preferem nossas placas cromadas?

Tecnologia de refinamento de grãos: As placas de cromo que produzimos possuem grãos microscópicos uniformemente finos (tamanho médio de partícula menor ou igual a 100 um), o que significa uma taxa de formação de filme mais uniforme quando usadas como alvos de pulverização catódica.

Compatibilidade de ligação extremamente alta: O processo de tratamento traseiro otimizado faz com que a taxa de ligação da soldagem de índio com o backplane de cobre chegue a 98%.

Rastreabilidade completa do ciclo de vida: Cada lote vem com um MTC (relatório de material) completo e um relatório de detecção de falhas ultrassônicas.

7. Áreas de aplicação: abrangendo os-projetos industriais mais avançados

Alvos de pulverização catódica PVD/CVD: fabricação de camadas de barreira, linhas de portas em monitores de tela plana (FPD).

Revestimento decorativo: para produtos eletrônicos de consumo, hardware de-alta qualidade para fornecer revestimento prateado-resistente ao desgaste-que não desbota.

Dispositivos semicondutores: fabricação de camadas de filme chave para foto{0}}máscaras.

Pesquisa de super{0}}ligas: como material aditivo básico para pesquisa e desenvolvimento de aços inoxidáveis ​​e super{2}}ligas de alto-desempenho.